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一种高深宽比光刻胶图形处理方法技术
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文档序号:24851267
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本发明公开了一种高深度比光刻胶图形处理方法,基于等离子体辅助原子层淀积,抑制高深宽比光刻胶图形坍塌和黏连,将显影后的光刻胶图形样品放入原子层淀积设备反应腔,把等离子体辅助离化后的金属或类金属化合物前驱体通入反应腔,在设定反应温度条件下与光刻...
该专利属于淮北师范大学所有,仅供学习研究参考,未经过淮北师范大学授权不得商用。
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