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本发明提供了一种曝光装置以及刻蚀方法，该曝光装置包括相对设置的掩膜板以及调光挡板，所述掩膜板上设置有掩膜图形，所述调光挡板包括调光区域以及围绕所述调光区域四周的边缘区域，所述掩膜图形利用穿过所述调光区域的光线形成特定光亮强度的曝光光线；该曝...该专利属于京东方科技集团股份有限公司;绵阳京东方光电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过京东方科技集团股份有限公司;绵阳京东方光电科技有限公司授权不得商用。