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本发明涉及半导体制造技术领域。且公开了一种真空气压调节装置,包括外腔室,所述外腔室内部设置有内腔室,且所述内腔室与所述外腔室固定连接,所述内腔室底端设置有有限联通管,且所述有限联通管与所述内腔室固定连接。该一种真空气压调节装置,通过有限联通...该专利属于艾华(无锡)半导体科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过艾华(无锡)半导体科技有限公司授权不得商用。
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本发明涉及半导体制造技术领域。且公开了一种真空气压调节装置,包括外腔室,所述外腔室内部设置有内腔室,且所述内腔室与所述外腔室固定连接,所述内腔室底端设置有有限联通管,且所述有限联通管与所述内腔室固定连接。该一种真空气压调节装置,通过有限联通...