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文档序号:2483514
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一种底盖,适用于半导体工艺用的炉管,炉管具有多个注入器及底座,底盖配置于炉管的底座上,底盖包括圆板及外环体。外环体配置于圆板的外缘且向圆板背向底座的一面的上方延伸,外环体具有一个缺口,缺口足以容纳注入器。...
该专利属于力晶半导体股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过力晶半导体股份有限公司授权不得商用。
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