【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种底盖，适用于半导体工艺用的炉管，该炉管具有多个注入器及底座，该底盖配置于该炉管的该底座上，其特征在于，该底盖包括：圆板；以及外环体，配置于该圆板的外缘且向该圆板背向该底座的一面的上方延伸，该外环体具有缺口，该缺口足以容纳该些注入器。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：陈俊霖，蔡庆文，贾世玮，
申请(专利权)人：力晶半导体股份有限公司，
类型：实用新型
国别省市：71[]
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