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用于将至少表面的全部或一部分由铝或铝合金构成的基材的表面或表面上粗糙化的蚀刻剂，至少包含过氧二硫酸根离子和氯离子。...
该专利属于日本帕卡濑精株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过日本帕卡濑精株式会社授权不得商用。

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