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本发明涉及一种利用等离子体及气体的用以去除电极氧化膜及蚀刻电极的处理方法，更具体而言，涉及一种包括从形成有通道的电极去除形成在电极上的氧化膜的步骤、及对去除氧化膜的所述电极执行蚀刻制程的步骤的用以去除电极氧化膜及蚀刻电极的处理方法。...
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