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本发明涉及离子注入装置及测定装置，防止产生二次电子引起的计测精度下降。离子注入装置具备测定照射于晶圆的离子束的角度分布的测定装置(62)。测定装置(62)具备：狭缝(66)，入射有离子束；中央电极体(70)，具有配置于从狭缝(66)向成为离...
该专利属于住友重机械离子科技株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过住友重机械离子科技株式会社授权不得商用。

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