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本公开涉及曝光方法和光刻装置。提供衬底(100)，在所述衬底(100)的主表面(110)上提供光敏层(200)。所述衬底(100)包括基底部分(101)和台面部分(102)。在基底部分(101)中，主表面(110)处于基底平面(105)中。...
该专利属于科尼亚克有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过科尼亚克有限公司授权不得商用。

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