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本发明属于光刻技术领域，具体公开了一种像质补偿装置、光学系统及光刻机。其中，像质补偿装置包括：镜座，所述镜座包括环形的调节座，所述调节座的内壁用于连接变形镜，所述调节座的外壁沿周向间隔设置有多个调节凸台；微调机构，能带动所述调节凸台沿所述调...
该专利属于上海微电子装备(集团)股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海微电子装备(集团)股份有限公司授权不得商用。

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