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本发明提供了一种碱性化学机械抛光液，其含有二氧化硅研磨颗粒、唑类化合物、络合剂、阴离子表面活性剂、钾盐和氧化剂。本发明的抛光液中加入了阴离子表面活性剂，改善了在高离子强度、高固含量下的胶体稳定性；静置较长时间后，抛光液的抛光速率不受影响，从...
该专利属于安集微电子(上海)有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过安集微电子(上海)有限公司授权不得商用。

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