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本发明提供了一种化学机械抛光液，包括二氧化硅研磨颗粒，含一个或多个羧基的含氮杂环化合物，唑类化合物及其衍生物，有机酸，氧化剂。本发明的抛光液同时具有较高的铜抛光速率氮化硅抛光速率，而且铜和氮化硅的抛光速率比接近1:1，从而用于抛光含有铜和氮...
该专利属于安集微电子(上海)有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过安集微电子(上海)有限公司授权不得商用。

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