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本发明提供了一种化学机械抛光液，包括二氧化硅研磨颗粒、抛光速率促进剂、pH调节剂、抗氧化变色剂和水。本发明的化学机械抛光液通过在抛光液中使用抗氧化变色剂，减少了抛光速率促进剂的消耗，从而减少了抛光液在使用中由于抛光速率促进剂的消耗而产生的副...
该专利属于安集微电子科技(上海)股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过安集微电子科技(上海)股份有限公司授权不得商用。

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