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本发明提供了一种化学机械抛光液，包括二氧化硅研磨颗粒、硅抛光速率促进剂、pH调节剂、循环使用处理剂和水。本发明的抛光液通过在抛光液中添加循环使用处理剂，降低在循环使用过程中的副产物产生速率，延长了抛光垫颜色保持不变的时间，提高了抛光过程的稳...
该专利属于安集微电子科技(上海)股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过安集微电子科技(上海)股份有限公司授权不得商用。

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