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基于质谱仪的分析系统和方法,其中可以利用反馈控制系统来控制采样探头内的液体流,以调节和/或维持所述采样探头的开放采样端口内的所述液‑气界面的表面轮廓(例如,形状)。所述反馈控制系统可以自动监测和/或检测所述液‑气界面的表面轮廓,并且调节所述...该专利属于DH科技发展私人贸易有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过DH科技发展私人贸易有限公司授权不得商用。
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基于质谱仪的分析系统和方法,其中可以利用反馈控制系统来控制采样探头内的液体流,以调节和/或维持所述采样探头的开放采样端口内的所述液‑气界面的表面轮廓(例如,形状)。所述反馈控制系统可以自动监测和/或检测所述液‑气界面的表面轮廓,并且调节所述...