用于质谱分析的直接采样界面的反馈控制的方法和系统技术方案

基于质谱仪的分析系统和方法，其中可以利用反馈控制系统来控制采样探头内的液体流，以调节和/或维持所述采样探头的开放采样端口内的所述液‑气界面的表面轮廓(例如，形状)。所述反馈控制系统可以自动监测和/或检测所述液‑气界面的表面轮廓，并且调节所述采样液体的流速，以确保在连续采样期间引入样本时实验条件保持一致。这些可以为所述离子源提供稳定且可重复的稀释度一致的分析物流，从而提高了通过MS分析生成的数据的可重复性和/或准确性。可以根据特定实验工作流程与所需设置点的变化一起使用(例如，在与采样设置点和清洁设置点相对应的界面之间的自动调节)。

Feedback control method and system of direct sampling interface for mass spectrometry

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于质谱分析的直接采样界面的反馈控制的方法和系统相关申请本申请要求于2017年11月21日提交的美国临时申请第62/589,075号的优先权的权益，其全部内容通过引用并入本文。
本教导总体上涉及质谱，并且更特别地涉及用于质谱系统和方法的采样界面。
技术介绍
质谱(MS)是一种分析技术，用于通过定性和定量应用来确定测试物质的元素组成。MS可以用于标识未知化合物，确定分子中的元素的同位素组成，通过观察其裂解确定特定化合物的结构并且定量样本中的特定化合物的量。鉴于其灵敏度和选择性，MS在生命科学应用中特别重要。在复杂样本基体(例如，生物、环境和食品样本)的分析中，多种当前MS技术要求在对目标分析物进行MS检测/分析之前对样本进行广泛的预处理步骤。此些分析前步骤可以包含采样(即，样本收集)和样本制备(与基体分离，浓缩，分级分离，以及在必要时衍生化)。例如，据估计，整个分析过程的80％以上的时间都可以花在样本收集和制备上，以便实现经由MS的分析物检测或去除样本基体中含有的潜在干扰源，但同时在每个样本制备阶段增加了潜在的稀释和/或误本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于分析样品的化学组成的系统，其包括：/n储存器，其用于储存液体；/n采样探头，其具有开放端，所述开放端部分地限定了样本空间，所述样本空间被配置成从所述储存器接收液体，所述样本空间内的所述液体进一步被配置成通过所述开放端接收样本的一或多种分析物；/n泵，其用于经由所述样本空间将所述液体从所述储存器输送到离子源，其中所述离子源被配置成将夹带有所述一或多种分析物的所述液体排放到与质谱仪的采样孔流体连通的电离室中；/n检测器，其用于生成指示所述采样探头的所述开放端处的所述液-气界面的表面轮廓的数据；和/n控制器，其被配置成基于所述表面轮廓数据生成控制信号，以调节所述液-气界面的所述表面轮廓。...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20171121 US 62/589,0751.一种用于分析样品的化学组成的系统，其包括：
储存器，其用于储存液体；
采样探头，其具有开放端，所述开放端部分地限定了样本空间，所述样本空间被配置成从所述储存器接收液体，所述样本空间内的所述液体进一步被配置成通过所述开放端接收样本的一或多种分析物；
泵，其用于经由所述样本空间将所述液体从所述储存器输送到离子源，其中所述离子源被配置成将夹带有所述一或多种分析物的所述液体排放到与质谱仪的采样孔流体连通的电离室中；
检测器，其用于生成指示所述采样探头的所述开放端处的所述液-气界面的表面轮廓的数据；和
控制器，其被配置成基于所述表面轮廓数据生成控制信号，以调节所述液-气界面的所述表面轮廓。


2.根据权利要求1所述的系统，其中所述样本包括含有所述一或多种分析物的液体样本。


3.根据权利要求1所述的系统，其中所述液体包括解吸溶剂，并且其中所述样本包括吸附有一或多种分析物的样本基板，使得所述一或多种分析物的至少一部分从其解吸到样本空间内的所述解吸溶剂中。


4.根据权利要求1所述的系统，其中所述控制器被配置成将所述表面轮廓数据与参考表面轮廓进行比较，并且生成用于调节所述采样探头内的液体的流速的控制信号，从而根据所述参考表面轮廓调节所述液-气界面的所述表面轮廓。


5.根据权利要求4所述的系统，其中由所述控制器生成的所述控制信号被配置成通过调节由所述泵提供的液体的流速和围绕所述离子源的所述排放端的雾化器气体的流速中的一种来调节所述采样探头内的液体的流速。


6.根据权利要求1所述的系统，其中所述检测器包括光学检测器、电容性检测器、超声检测器和图像检测器中的至少一种。


7.根据权利要求1所述的系统，其中所述控制器可操作地连接到所述泵，并且被配置成通过调节由所述泵提供给所述样本空间的液体的流速来调节所述采样探头内的液体的流速。


8.根据权利要求1所述的系统，其中所述系统进一步包括雾化器气体源，所述雾化器气体源用于提供围绕所述离子源的所述排放端的雾化气体流，其中所述控制器可操作地耦合到所述雾化器气体源，并且其中所述控制器被配置成通过控制提供给所述离子源的所述排放端的雾化气体的流速来调节所述采样探头内的液体的流速。


9.根据权利要求1所述的系统，其中所述采样探头包括：
外毛细管，其从近端延伸到远端；和
内毛细管，其从近端延伸到远端并且设置在所述外毛细管内，其中所述内毛细管的所述远端相对于外毛细管的所述远端凹入，从而在所述内毛细管的所述远端、所述外毛细管的内壁的一部分和所述外毛细管的所述远端之间限定所述样本空间，
其中所述内和外毛细管限定了经由所述样本空间彼此流体连通的解吸溶剂导管和采样导管，所述解吸溶剂导管从被配置成从所述储存器接收解吸溶剂的入口端延伸到终止于所述样本空间处的出口端，并且所述采样导管从开始于所述样本空间处用于从所述样本空间接收夹带有所述解吸分析物的解吸溶剂的入口端延伸到流体...

【专利技术属性】
技术研发人员：D·W·阿诺德，T·R·柯维，刘畅，B·莫罗尚，
申请(专利权)人：DH科技发展私人贸易有限公司，
类型：发明
国别省市：新加坡;SG