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本发明公开了一种连续制备碳化硅晶须的三室连续晶须生成真空炉。将真空炉依次分成三室，分别为装料准备室、碳热还原反应室和冷却卸料室，分别用隔热密封门隔开。三室中分别装有压力表、三通阀门抽气／放气口和进气口，碳热还原反应室上下两侧装有加热炉；石墨...
该专利属于浙江理工大学所有，仅供学习研究参考，未经过浙江理工大学授权不得商用。

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