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本发明涉及一种显示面板的制备方法、显示面板，通过曝光、蚀刻工艺在所述缓冲层上设置沟槽，将所述缓冲层分隔成相互独立的单元，使得缓冲层之上的栅极绝缘层、介电层以及钝化层由连续成膜转换为在相互独立的缓冲层上成膜，从而减小栅极绝缘层、介电层以及钝化...
该专利属于武汉华星光电技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过武汉华星光电技术有限公司授权不得商用。

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