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本发明公开一种大口径平面光学元件抛光机及抛光和精度控制方法，实现工件的转速及校正板位置的自由调节；避免工件出现转速不均匀甚至不转、反转的情况，同时通过激光位移传感器对抛光盘面形精度进行检测；压电式微位移驱动器控制抛光盘的面形分布以及环境影响...
该专利属于闽南理工学院所有，仅供学习研究参考，未经过闽南理工学院授权不得商用。

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