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本实用新型公开了一种提高使用率的磁控溅射柱状靶材，包括管状主体，所述主体中间形成中心通孔，其管壁上形成两个增厚环，所述增厚环的厚度不小于主体的壁厚。本实用新型提供了一种提高使用率的磁控溅射柱状靶材，增厚环的设计，延长刻穿的时间，使得整体靶材...
该专利属于核工业理化工程研究院所有，仅供学习研究参考，未经过核工业理化工程研究院授权不得商用。

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