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本实用新型的一种用于硅抛光片清洗机的控制化学液浓度的装置，包括两两相连通的清洗槽、循环管路、补液管路，所述清洗槽由相嵌设置的内槽、外槽组成，所述循环管路由循环泵、过滤器、加热器组成，所述补液管路由氨水浓度计、双氧水浓度计、控制模组、氨水计量...
该专利属于麦斯克电子材料有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过麦斯克电子材料有限公司授权不得商用。

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