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本发明公开了一种LPCVD石英舟的清理方法,通过将待清理LPCVD石英舟置入高温炉中;在预设温度下向所述高温炉中通入氯气,使所述LPCVD表面的多晶硅层与所述氯气进行反应;排出废气,得到去除所述多晶硅层的LPCVD石英舟。本发明利用氯气在高...该专利属于浙江晶科能源有限公司;晶科能源有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过浙江晶科能源有限公司;晶科能源有限公司授权不得商用。
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本发明公开了一种LPCVD石英舟的清理方法,通过将待清理LPCVD石英舟置入高温炉中;在预设温度下向所述高温炉中通入氯气,使所述LPCVD表面的多晶硅层与所述氯气进行反应;排出废气,得到去除所述多晶硅层的LPCVD石英舟。本发明利用氯气在高...