专利查询
首页
专利评估
登录
注册
当前位置:
首页
>
专利查询
>
朗姆研究公司
>
使用牺牲蚀刻盖层的高深宽比特征的介电间隙填充制造技术
>技术资料下载
下载使用牺牲蚀刻盖层的高深宽比特征的介电间隙填充的技术资料
文档序号:24694098
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
本发明描述了用于将材料沉积到高深宽比特征,多层堆叠件中的特征,具有正倾斜的侧壁的特征,具有负倾斜的侧壁的特征,具有内凹轮廓的特征和/或具有侧壁形貌的特征的方法和设备。方法包括将第一数量的材料(例如电介质(例如硅氧化物))沉积到特征中,并在衬...
该专利属于朗姆研究公司所有,仅供学习研究参考,未经过朗姆研究公司授权不得商用。
详细技术文档下载地址
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。