下载使用牺牲蚀刻盖层的高深宽比特征的介电间隙填充的技术资料

文档序号:24694098

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本发明描述了用于将材料沉积到高深宽比特征,多层堆叠件中的特征,具有正倾斜的侧壁的特征,具有负倾斜的侧壁的特征,具有内凹轮廓的特征和/或具有侧壁形貌的特征的方法和设备。方法包括将第一数量的材料(例如电介质(例如硅氧化物))沉积到特征中,并在衬...
该专利属于朗姆研究公司所有,仅供学习研究参考,未经过朗姆研究公司授权不得商用。

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