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一种GaN纵向逆导结场效应管制造技术
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文档序号:24690998
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本发明属于功率半导体技术领域,涉及GaN纵向逆导结场效应管。本发明利用器件顶层两个背靠背的PN结形成JFET结构来控制沟道的开启和关断。肖特基金属和欧姆金属分别淀积在相邻两个JFET区上形成源极,利用源极肖特基金属形成逆导二极管的阳极,漏极...
该专利属于电子科技大学所有,仅供学习研究参考,未经过电子科技大学授权不得商用。
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