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一种等离子体处理方法包括：提供一等离子体处理装置，包括一处理腔室以及一容置于所述处理腔室中的静电卡盘，所述静电卡盘包括一支撑面，所述静电卡盘中设有一升降销，所述升降销可自第一位置升高至第二位置；在所述升降销处于所述第一位置时，将一待处理基板...
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