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本发明提供了一种重掺硼硅片双次碱腐蚀加工工艺，包括初级碱腐蚀、预超洗、HCL中和、快排水洗、二级碱腐蚀、预超洗、HCL中和、快排水洗及甩干，通过采用两次碱腐蚀工艺，即先采用中高温初级腐蚀，消除重掺硼硅片表面脏污色块和硅粉分布不均匀层(3‑5...
该专利属于浙江中晶科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过浙江中晶科技股份有限公司授权不得商用。

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