温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明涉及一种Ge(Ⅱ)前驱体及其制备方法和应用，所述Ge(Ⅱ)前驱体是由如式(A)、式(B)或式(C)所示的配体与锗的二氯化物通过配位作用形成的配位化合物；所述锗的二氯化物包括二氯化锗、二氯化锗水合物或二氯化锗配合物。其制备方法为在保护性...
该专利属于东泰高科装备科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过东泰高科装备科技有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。