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一种基于激光刻蚀的直立碳纳米管阵列转移方法技术
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文档序号:24665169
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本发明公开了一种基于激光刻蚀的直立碳纳米管阵列转移方法,所述转移方法包括步骤如下:选择生长衬底,将直立碳纳米管阵列生长在所述的生长衬底上;采用粘结剂作为连接介质,将远离衬底的直立碳纳米管阵列的端部粘贴至目标衬底上;采用激光透过生长衬底直接刻...
该专利属于中山大学所有,仅供学习研究参考,未经过中山大学授权不得商用。
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