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本实用新型公开了一种用于多晶硅还原炉的导流装置及具有其的还原炉，所述还原炉具有进气口、出气口以及底盘，所述出气口形成在所述还原炉的底盘中心，所述导流装置包括：导流罩，导流罩的顶部封闭以阻止气流垂直进入底盘而造成还原炉内气体湍流；支撑件，支撑...该专利属于洛阳中硅高科技有限公司;中国恩菲工程技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过洛阳中硅高科技有限公司;中国恩菲工程技术有限公司授权不得商用。