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本发明公开了一种基板处理装置。本发明的基板处理装置在基板处理工艺时控制气体流动，提高温度的均匀度，并且可防止颗粒流进处理空间内。...
该专利属于圆益IPS股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过圆益IPS股份有限公司授权不得商用。

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