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本发明涉及用于衬底表面处理的方法及装置。根据该方法，将该衬底表面布置在过程腔室中，使用由离子束源产生且瞄准该衬底表面的离子束冲击该衬底表面以自该衬底表面移除杂质，其中该离子束具有第一成分，将第二成分引入至该过程腔室中以结合该经移除杂质。此外...
该专利属于EV集团E·索尔纳有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过EV集团E·索尔纳有限责任公司授权不得商用。

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