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本发明提供了一种真空装置及真空镀膜设备，涉及真空镀膜设备技术领域，所述真空装置包括：真空腔室、载板和进气机构和阻风板，所述载板用于支撑晶体片，所述进气机构设置在所述真空腔室的腔盖上，用于向所述真空腔室内充气，所述载板和阻风板均位于所述真空腔...
该专利属于苏州迈正科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过苏州迈正科技有限公司授权不得商用。

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