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本发明的实施例可以包括一种用于确保半导体设计完整性的方法。该方法可包括分析半导体电路的光掩模设计。光掩模可以包括半导体电路的操作所必需的电气设计和没有电气设计的空白空间。该方法可以包括将光学设计插入到用于半导体电路的光掩模设计的空白空间中。...
该专利属于国际商业机器公司所有，仅供学习研究参考，未经过国际商业机器公司授权不得商用。

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