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本实用新型提出一种集清洗及烘干于一体的基片清理设备，包括：外壳，外壳内设置有清洗区及漂洗区，与外壳连接有清洗密封门，与外壳连接有漂洗密封门；清洗池，与清洗池连接有清洗液进、出液管；漂洗池，与漂洗池连接有漂洗液进、出液管；超声波发生器，位于清...
该专利属于青岛天仁微纳科技有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过青岛天仁微纳科技有限责任公司授权不得商用。

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