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图案式防护结构制造技术
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文档序号:24584329
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本发明公开了一种图案式防护结构,其应用于集成电路中。该图案式防护结构位于该集成电路的一电感与一基板之间,其中该图案式防护结构包含一中央结构单元第一图案化结构单元和一第二图案化结构单元。中央结构单元包含一第一骨干以及多条第一支干,多个所述第一...
该专利属于瑞昱半导体股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过瑞昱半导体股份有限公司授权不得商用。
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