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本发明实施例提供一种阵列基板及其制备方法，包括：在基板层上依次形成半导体构件、阻挡构件、第一绝缘层、栅极、第二绝缘层、层间绝缘层；以预定掩模和所述阻挡构件的组合对所述第一绝缘层、所述栅极、所述第二绝缘层和所述层间绝缘层实施光罩制程，并进行蚀...
该专利属于武汉华星光电半导体显示技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过武汉华星光电半导体显示技术有限公司授权不得商用。

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