温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明公开了一种减少硅片表面图形缺陷的清洗方法，包括如下步骤：步骤1，使用双氧水溶液对旋转的待清洗硅片进行预处理，使所述待清洗硅片的表面产生一层均匀的双氧水水膜；步骤2，利用硫酸溶液对所述待清洗硅片进行清洗。本发明在使用硫酸溶液处理硅片之前...
该专利属于上海华力集成电路制造有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华力集成电路制造有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。