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本申请涉及层合体。本申请可以在基底上形成高度配向的嵌段共聚物而没有取向缺陷、配位数缺陷、距离缺陷等，从而提供可以有效地应用于生产各种图案化基底的层合体以及用于使用其生产图案化基底的方法。...
该专利属于株式会社LG化学所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社LG化学授权不得商用。

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