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本发明涉及单质铜、钴、镍薄膜相关制备方法技术领域，且公开了一种利用热型原子层沉积技术制备单质铜、钴、镍薄膜的方法，所述方法包括氨基醇类和肼类，氨基醇类为金属前驱体，肼类为还原性前驱，利用热型原子层沉积技术即可沉积连续均匀的单质薄膜。本发明使...
该专利属于江苏迈纳德微纳技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过江苏迈纳德微纳技术有限公司授权不得商用。

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