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接合用铜糊料、接合体的制造方法及半导体装置的制造方法制造方法及图纸
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文档序号:24509718
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本发明的接合用铜糊料含有金属粒子和分散介质,金属粒子含有体积平均粒径为0.12μm以上且0.8μm以下的亚微米铜粒子和体积平均粒径为2μm以上且50μm以下的微米铜粒子,亚微米铜粒子的含量及微米铜粒子的含量之和以金属粒子的总质量为基准计为8...
该专利属于日立化成株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过日立化成株式会社授权不得商用。
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