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高电压漏极延伸式MOS晶体管制造技术
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文档序号:24506000
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一种半导体装置(100)包含位于第一导电类型的半导体衬底(105)内的MOS晶体管(101)。所述晶体管(101)包含位于漏极阱(130)与衬底接触阱(160)之间的主体阱(135)。第二导电类型的掩埋电压阻挡区(155)位于所述衬底(10...
该专利属于德州仪器公司所有,仅供学习研究参考,未经过德州仪器公司授权不得商用。
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