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本发明提供一种键合结构及其制造方法,在底层结构的正面形成有混合键合结构,在待键合的第二晶圆结构的背面预先形成背连线以及混合键合结构,通过第二晶圆结构背面的混合键合结构以及底层结构正面的混合键合结构实现晶圆结构的键合,在需要键合多个第二晶圆结...该专利属于武汉新芯集成电路制造有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过武汉新芯集成电路制造有限公司授权不得商用。
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