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本发明公开了一种改善蚀刻均匀性的曝光方法，涉及到蚀刻曝光方法技术领域，a、设备调试：准备曝光机，进行曝光前，需针对使用的曝光机以test模式各别做出不同曝光能量时间及各别焦距的矩阵图形，用以确认此曝光机单次曝光时，适用的能量时间及可用之焦距...
该专利属于锐捷光电科技(江苏)有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过锐捷光电科技(江苏)有限公司授权不得商用。

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