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本发明涉及温室设备技术领域，尤其多温室集中控制系统，包括：FPGA和多组调节机构；所述FPGA包括：控制模块；所述控制模块，用于在当前控制周期内，将各温室的环境数据与对应预设阈值进行比较，利用比例控制算法，得到对应控制变量；所述调节机构，设...
该专利属于武汉理工大学所有，仅供学习研究参考，未经过武汉理工大学授权不得商用。

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