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本发明涉及一种用于测量通过半导体制造装置(300)、特别是涂覆器或接合器的管道(101)的流体流量的设备(100)，包括：密封结构(103)，其布置在管道(101)中；流动结构(105)，其具有布置在密封结构(103)上游的流体入口(107...
该专利属于苏斯微技术光刻有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过苏斯微技术光刻有限公司授权不得商用。

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