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本实用新型公开了一种适用于高温石墨烧结炉的陶瓷粉体合成反应装置,包括炉体、保温腔、反应腔室(一个或多个)、导气组件、腔室支架和加热装置;保温腔设置在炉体内,反应腔室设置在保温腔内,腔室支架设置在反应腔室底部,加热装置设置在保温腔内并位于腔室...该专利属于中国工程物理研究院材料研究所所有,仅供学习研究参考,未经过中国工程物理研究院材料研究所授权不得商用。
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本实用新型公开了一种适用于高温石墨烧结炉的陶瓷粉体合成反应装置,包括炉体、保温腔、反应腔室(一个或多个)、导气组件、腔室支架和加热装置;保温腔设置在炉体内,反应腔室设置在保温腔内,腔室支架设置在反应腔室底部,加热装置设置在保温腔内并位于腔室...