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本申请提供一种晶体制备装置。所述晶体制备装置包括：生长腔体，用于放置籽晶和源材料；加热组件，用于加热所述生长腔体；温度补偿组件，用于在晶体生长过程中提供温度补偿，其中，所述温度补偿组件位于所述生长腔体上表面或下表面，所述温度补偿组件包括至少...
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