专利查询
首页
专利评估
登录
注册
当前位置:
首页
>
专利查询
>
富士电机株式会社
>
半导体装置的制造方法制造方法及图纸
>技术资料下载
下载半导体装置的制造方法的技术资料
文档序号:24421794
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
半导体装置的制造方法是首先,在第一导电型的半导体基板(10)的一侧的主表面(10a)侧形成半导体元件的正面元件结构。接着,在半导体基板(10)的另一侧的主表面(10b)侧形成第一保护膜(17)。接着,从形成了第一保护膜(17)的另一侧的主表...
该专利属于富士电机株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过富士电机株式会社授权不得商用。
详细技术文档下载地址
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。