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本发明涉及等离子体蚀刻装置用构件及制造方法，更详细而言，涉及一种通过稀土类金属薄膜的沉积及表面热处理来提高耐等离子体特性，保持光透过性并能够用作蚀刻工序的终点分析用途构件的等离子体蚀刻装置用构件及其制造方法。...
该专利属于KOMICO有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过KOMICO有限公司授权不得商用。

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