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本文中公开了用于使用反向散射粒子检测掩埋特征的设备(100)和方法。在一个示例中，该设备包括：带电粒子的源；平台(30)；被配置为将带电粒子的射束引导到平台上支撑的样本(9)的光学器件(16)；被配置为检测来自样本的射束中的带电粒子的反向散...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。

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